우리 대학이 정부와 반도체업계가 함께 하는 ‘민관공동투자 반도체 고급인력양성사업’(이하 반도체 고급인력양성사업)의 주관연구기관으로 선정됐다. 이 사업은 정부와 삼성전자·SK하이닉스가 힘을 합쳐 2023년부터 향후 10년간 총 2,228억 원의 총 사업비를 투자해 반도체 분야 핵심기술을 개발하고 반도체 석·박사급 고급인력 2,365명을 양성하는 사업이다. 

우리 대학은 반도체 제조 공정의 핵심 공정인 ‘플라즈마 공정’의 정밀도를 높일 수 있는 플라즈마 장비 진단 모니터링 기술을 개발하는 과제에 선정됐다(과제명 : 실공정가스 다중 스케일 플라즈마 장비 공정 전산모사를 통한 플라즈마 장비 진단 모니터링 분석 기술 개발). 

물질이 고온, 고에너지 상태에서 기체 상태를 뛰어넘어 전자, 양이온, 중성입자로 된 일종의 가스 상태가 된 것을 ‘플라즈마’라고 부른다. 반도체 제조 공정에선 이 플라즈마를 사용해 반도체 원판을 침식시켜서 표면을 깨끗하게 처리하거나(식각, 세정), 반도체 원판 표면에 층을 형성시킨다(증착). 최근 인공지능, 자율주행, 5G 등 신기술이 속속 등장하면서 더 작고 더 복잡한 반도체가 필요해지자 플라즈마 기술에도 높은 정밀도와 효율성이 요구되고 있다. 이번 연구과제는 이러한 플라즈마 공정을 정교하게 진단 모니터링해 불량은 줄이고 수율은 높이는 원천기술을 개발하고 관련분야의 석·박사급 전문인력을 양성하는 것을 목표로 한다. 

이 연구에는 우리 대학이 주관기연구기관(항공전자정보공학부 이효창, 최희환 교수)으로 참여하며, 국내 우수 연구진이 공동연구기관(한양대 김주호 교수, 대전대 김경남 교수, 전북대 임연호 교수, 한국표준과학연구원 김정형 박사, 한국핵융합에너지연구원 정상영 박사)으로 함께 한다. 연구 기간은 2023년 4월부터 2027년 12월까지이며, 총 연구비는 45억 원(정부출연금 22.5억, 삼성전자·SK하이닉스 출연금 22.5억)이다. 

과제 총괄 책임을 맡은 이효창 교수(위 사진)는 “이번 과제를 통해 반도체 공정 기술의 한계를 극복하고 차세대 지능형 플라즈마 공정장비 기술을 개발할 뿐만 아니라 반도체 분야 석·박사급 고급인력 양성에도 보탬이 될 수 있도록 힘을 쏟겠다”는 각오를 밝혔다.